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工業水處理設備

單晶矽、微電子產品生產用高純水設備

文字:[大][中][小] 2016-1-26    瀏覽次數:2198    

單晶矽等矽材料、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、光電器件、各種電子器件、微電子工業、需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。目前對其清洗和生產的水質精度要求都比較高,電阻度一般要求大於10兆歐/厘米;

其主要工藝如下:

1、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床(複床)→純水箱→純水泵→後置精密過濾器→用水點

2、采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式,這是一種製取超純水的最新工藝,也是一種環保,經濟,發展潛力巨大的超純水製備工藝,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→後置精密過濾器→用水點

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