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工業水處理設備

半導體、顯像管、光學產品等製造業用純水設備

文字:[大][中][小] 2016-1-26    瀏覽次數:1982    

半導體清洗超純水設備水質標準:

半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高,這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

半導體清洗超純水設備製備工藝:

1、預處理係統→反滲透係統→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥16MΩ.CM)(最新工藝)

3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)

半導體清洗超純水設備應用場合:

☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗 ☆電子管生產、電子管陰極塗敷碳酸鹽配液

☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉澱、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

☆液晶顯示器的生產、屏麵需用純水清洗和用純水配液

☆晶體管生產中主要用於清洗矽片,另有少量用於藥液配製

☆ 集成電路生產中高純水清洗矽片

☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

☆高品質顯像管、螢光粉生產

☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

☆實驗室和中試車間

☆汽車、家電表麵拋光處理

☆光電產品、其他高科技精微產品

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